奥普光电(002338.SZ)7月22日在投资者互动平台表示,在敞开式光栅尺的基础上,已开始高精度光栅刻划的研究工作,并完成了理论验证,预计在年底之前可完成高精度(±1um)光栅尺的正式样机;同时开展了超精尺的研发工作,尚处于原理样机开发阶段。